產(chǎn)品中心
Product Center
熱門搜索：
美國(guó)EDAX能譜儀
EP6美國(guó) Cascade Microtech EP6探針臺(tái)
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產(chǎn)全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀
主動(dòng)隔振臺(tái)ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）
iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀
P170全自動(dòng)晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)
納米團(tuán)簇束流沉積系統(tǒng)
P7晶圓探針式輪廓儀/臺(tái)階儀
Lumina光學(xué)表面缺陷分析儀
Profilm 3D經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀 可測(cè)樣
Solver P47俄羅斯產(chǎn)高性價(jià)比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠
當(dāng)前位置：首頁
產(chǎn)品中心輪廓儀光學(xué)輪廓儀
product
產(chǎn)品分類
非接觸式優(yōu)點(diǎn)就是測(cè)量裝置探測(cè)部分不與被測(cè)表面的直接接觸，保護(hù)了測(cè)量裝置，同時(shí)避免了與測(cè)量裝置直接接觸引入的測(cè)量誤差。 Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測(cè)量模式同時(shí)采集高分辨率 3D 掃描和真彩色無限對(duì)焦圖像。其他測(cè)量技術(shù)包括白光干涉法、Nomarski 干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉法。 Zeta-20 也可用于樣品審查或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。
更新時(shí)間：2024-06-17
產(chǎn)品型號(hào)：Zeta-20
瀏覽量：6058
Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測(cè)量。 我司有此機(jī)器可測(cè)樣。
更新時(shí)間：2024-06-17產(chǎn)品型號(hào)：Profilm 3D瀏覽量：4852
從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀測(cè)量分析和粗糙度質(zhì)量評(píng)價(jià)。白光干涉原理。
更新時(shí)間：2024-09-06產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：1872